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產(chǎn)品展示/ Product display

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二氧化硅消光粉高速膠體磨

二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:2100
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詳細介紹

二氧化硅消光粉高速膠體磨

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二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀,廣泛應(yīng)用于涂料工業(yè)。通過對其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制,消光粉能夠為不同的涂料和印刷油墨提供出色的啞光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒徑小且集中。

在傳統(tǒng)膠體磨基礎(chǔ)上改進,不僅使轉(zhuǎn)速由原來的3000轉(zhuǎn)提升到了14000轉(zhuǎn),甚至是21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速,細碎效果更好,作用效率更快,同時在結(jié)構(gòu)是除了原本有的細碎研磨功能以外,更增設(shè)了高速離心分散功能,使物料在細碎過后能夠更加穩(wěn)定的分散,不分層,不沉淀。 改進型膠體磨依靠定轉(zhuǎn)子間間隙(間隙可調(diào))使物料在通過研磨區(qū)域使受到強大的機械力、液力剪切、高頻振動等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎,隨后進過第二級高速剪切分散盤再一次剪切細化分散、勻化,達到物料超細粉碎和分散勻化的效果。

1、耐有機溶劑、耐腐蝕; 
2、材質(zhì)為316L不銹鋼; 
3、設(shè)備定轉(zhuǎn)子(研磨分散工作腔體)間間隙可調(diào),粒度可控; 
4、設(shè)備整體機身夾套設(shè)計,高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生的熱量可以通過外接冷卻設(shè)備進行控溫; 
5、主軸與電機分體設(shè)計,用戶可根據(jù)需要選擇適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速; 
6、設(shè)備為變頻調(diào)速,可通過變頻控制柜合理準(zhǔn)確的調(diào)節(jié)設(shè)備轉(zhuǎn)速; 
7、可靈活設(shè)計生產(chǎn)過程中的特殊需求(設(shè)備表面光潔度、真空、防爆、設(shè)備材質(zhì)); 
8、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗,無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù),程度降低了風(fēng)險 

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化硅消光粉高速膠體磨

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